MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI 

E-CELL的EDI 采用模塊化技術，通過不同數量的模塊搭配，可以適應各種水處理要求。其為發電、半導體、微電子、化工以及制藥等行業的高純水的生產提供有力保障。

EDI 利用傳統的離子交換樹脂將水中的污染離子去除，其ZD的優點在于： EDI 技術采用直流電迫使污染離子持續的從進水中遷移出來，并穿過離子床和離子交換膜進入濃水室。同時直流電能夠將水分子電離成氫離子和氫氧根離子，持續的對樹脂進行再生。因此 EDI 可以連續、可預知的生產出等同甚至優于混床出水的高純水

 

一、技術參數

	裝運重量：	92kg	尺寸（寬*高*厚）：	30cm*61cm*48cm
進水參數
	總可交換陰離子（ppm以CaCO3計）：	<25	電導率：	<43us/cm
	PH:	5-9	溫度：	4.4-40攝氏度
	硬度（ppm以CaCO3計）：	<1.0	二氧化硅（ppm以SiO2計）：	<1.0
	TOC(ppm):	<0.5	濁度（NTU）：	<1.0
	色度（APHA）：	5	余氯（ppm）：	<0.05
	Fe,Mn,H2S(ppm):	<0.01	氧化劑：	未檢出
	油脂：	未檢出	SDI (15min):	<1.0
出水水質
	電阻率：	>10MOhm.cm	TOC(以C計，ppb):	<500
	PH:	6.5-8
工作參數
	標準產水量（M3/H）：	4.1	產水量范圍（M3/H）：	1.6-4.6
	回收率：	87-95%	濃水流向：	逆流
	是否加鹽：	否	電壓（VDC）：	0-300
	電流（ADC）：	0-5.2	進水壓力（bar）：	4.1-6.2
	標準壓降（bar）:	1.4-2.4	1h高溫消毒次數：	160
	消毒溫度：	80-85攝氏度

 

 

二、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI應用市場

1、半導體、電子、陽能

2、化工、鋼鐵、冶金

3、發電（鍋爐給水）

4、 制藥（高溫制藥用模塊）

5、 實驗室（Mini 模塊）

三、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI主要特點：

SUEZ EDI 的特點

1、濃水室添加樹脂，電耗低

2、逆流運行，降低結垢傾向

3、出水水質高，長期運行穩定

4、無需向濃水室加鹽和濃水 循環，簡化了系統設計

四、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI的儲存條件：

MK-3PharmHT模塊應在室內儲存，避免陽光直射，儲存溫度在33ºF（1℃）至109ºF（43℃）之間。

MK-3PharmHT模塊里面的膜必須保持濕潤。如果儲存三天以上，模塊必須裝滿水。為了能保存更長時間比如說一年，必須排出E-Cell-3X模塊里的水，并將管口蓋上，以保持濕潤。任何時候儲存模塊時， 必須使其后面的管口向上。

 

四、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI的停機步驟：

MK-3PharmHT模塊短期停機 

如果擬將系統停機一段時間，且管道允許系統排水，則必須關閉某些手動閥。它們包括如下所述：

1. 關閉淡水進口閥。

2. 關閉淡水出口閥。

3. 關閉淡水產水沖洗閥。

4. 關閉濃水排放閥。

5. 關閉極水出口閥。

MK-3PharmHT模塊長期停機

如果MK-3PharmHT模塊擬停機三天以上，它們必須為長期停機作準備并存儲模塊，以阻止生物群的生長。

注：為長期停機作準備的所有步驟期間，MK-3PharmHT模塊必須斷電！

注意：

1. 必須關閉MK-3PharmHT模塊的電源。

2. 允許MK-3PharmHT模塊排干所有積水。

3. 關閉或蓋上所有MK-3PharmHT模塊的進口和出口，這樣它們就能保持濕潤。

4. 長期停機后，再次運行，MK-3PharmHT模塊也許會要求再生。再生大約需要8-16小時。

 

 

 五、MK-3   EDI 相較于混床

 

1、工藝先進

2、無需化學品再生

3、運行成本大幅低于混床

4、連續運行，操作簡單

5、減少設備占地空間